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机会早知道:美光发布首个手机3D闪存 半导体市场升温(概念股) ...

2016-8-12 09:40| 发布者: adminpxl| 查看: 14541| 评论: 0

摘要: 继三星发布了UFS2.0高速储存卡之后,美光日前发布了全球首个手机3D闪存。闪存科技快速发展折射出当前对于高科技芯片的广阔需求。今年以来,由于下游需求旺盛,半导体设备订单密集增加。当前半导体设备和材料的国产化 ...
南大光电(300346)进军特气、光刻胶 打造电子化学品综合平台


                 
    1.MO源稳定发展,拓展小体量高毛利品种
    公司是全球4大MO源供应商之一。目前三甲基镓毛利率跌至个位数,下降空间有限。三甲基铟高毛利率维持,目前已成为MO源业务主要盈利来源。此外,公司将继续加强小品种高毛利的MO源研发生产。未来MO源业务稳定增长,净利润估计保持为5000-6000万元。
    2.16年高纯高纯砷烷、磷烷放量,打造电子特气大平台
    特气市场规模广阔,仅我国半导体制造用电子气体15年将达32.8亿元。公司15吨高纯砷烷、35吨磷烷生产线16年将正式投产,投产后将打破国外垄断,实现进口替代。公司高纯砷烷、磷烷价格3000-3500元/千克,毛利率50%以上。此外,包括高纯四(二甲氨基)钛在内的储备产品已经研发并实现小批量生产,未来有望以现有产品为依托推出更多IC制程特种气体产品,打造特种气体大平台。
    3.入股科华,进入IC最关键材料之一的光刻胶
    公司入股北京科华,持有科华31.39%的股份,并将在原有产能455吨基础上,新增产能1720吨。科华是国内第一个进入KrF(248nm)光刻胶领域的厂商,产品已在中芯国际试用了一年半,目前已经通过认证,实现小批量采购。我国半导体和平板显示用光刻胶市场空间将近15亿元,每年增速15%以上,目前基本被国外厂商垄断。光刻胶技术门槛极高,是影响集成电路性能的关键材料,下游客户粘性极高。随着国产化率的提升,科华是国内光刻胶领域的龙头企业,具有先发优势,光刻胶有望爆发。
    4.投资建议:
    公司已逐步实现MO源、特气、光刻胶三大业务的布局,明年特气和光刻胶有望贡献业绩。未来公司将围绕IC产业,打造成为电子材料综合平台。预计公司15-17年EPS为:0.32、0.46、0.61元,对应PE为113X、79X、59X,给予“强烈推荐”评级。
    5.风险提示:MO源竞争激烈,特气放量不及预期。



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